施設に関するお知らせ
- 産学官の研究開発をサポートする共用施設であり、NIMS以外の方もご利用可能です
- 当施設で得られた試料やデータ等を販売するなどの営利目的でのご利用はできません
- 当施設の利用は、原則平日9時～17時です（メンテナンス等による施設閉鎖日除く）
- 入構には所定の手続きが必要となりますので、「アクセス」をご確認ください
- 半導体微細加工プロセス装置を中心に、約60台の装置をご利用いただけます
- 特段の材料制限は設けておりませんので、クロスコンタミを懸念される方はご遠慮ください
- クリーンウェア等は共用のものをご利用いただけますので、ご持参いただく必要はありません
- パソコンやスマートフォン等の持ち込みは可能ですが、無断撮影等はご遠慮ください
- 実験器具や薬品等を持ち込みたい場合は事前に相談の上、了承を得る必要があります
- その他の施設利用ルールは「施設利用マニュアル」をご確認ください
ご利用前のお知らせ
- 利用申し込み・各種登録には、事前の利用相談が必須となります
- 利用相談では、利用目的や利用希望内容をわかりやすくご説明ください
- 利用内容・結果を公表する「公開利用」と、秘匿とする「非公開利用」があります
- 契約書等の取り交わしはありませんが、当機構が定める利用約款に同意する必要があります
- 利用によって得られた成果等の所有権は利用者に帰属します
- 非居住者・特定類型該当者等の場合は該非判定の手続きが必要です
- 所属する機関（会社・大学等）での安全衛生教育を受講していることが前提です
- 当施設の利用に関する安全教育は、装置操作トレーニング時にオンジョブで行います
- 学生の場合は、学研災及び学研災付帯賠償責任保険に加入してください
ご利用中のお知らせ
- 利用形態は、「機器利用」「技術補助」「技術代行」があります
機器利用：機器利用ライセンス取得後、利用者のみで装置を使用する利用形態
技術補助：機器利用ライセンス取得のために、操作トレーニングを受ける利用形態
技術代行：来所困難な利用者の代わりに、一部の加工プロセスを代行する利用形態 - 機器利用ライセンス取得に要する回数・時間は利用者の習熟度によって変わります
- 技術補助の依頼や担当スタッフとの日程調整等はメールにてお願いいたします
- 技術代行は内容や事情によって受け付けの可否を判断させていただきます
- 受託開発は行っておりませんので、原則利用者自身での利用となります
- 装置利用は完全予約制です（装置に空きがあれば当日・直前予約も可）
- 予約の変更・キャンセルは2運営日前まで可能です（その後は100%課金されます）
- やむを得ない事情で当日キャンセル等を行いたい場合は事前にご相談ください
ご利用後のお知らせ
- 退職等により今後施設を利用しなくなる場合は、事前にご連絡をお願いいたします
- すべての利用は各年度末で終了となり、継続する場合は再度課題申請が必要となります
- 利用報告は公開利用・非公開利用それぞれの所定の様式で速やかに提出してください
- 利用で得られた成果を論文・学会等で発表する場合は謝辞への記載をお願いいたします
【公開利用（ARIM利用）における謝辞】
和文：本研究（の一部）は、文部科学省「マテリアル先端リサーチインフラ」事業（課題番号JPMXP12xxNMyyyy）の支援を受けた。
英文：(A part of) This work was supported by "Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology in Japan (ARIM)" of the Ministry of Education, Culture, Sports, Science and Technology (MEXT). Proposal Number JPMXP12xxNMyyyy.
料金に関するお知らせ
- 利用料金は利用（予約）時間に応じた従量課金制で、毎月実績請求となります
- 所属区分・利用区分・利用形態によって料金単価が異なりますので料金表をご確認ください
- 施設が提供する消耗品や試薬、レジスト、ターゲット等の使用に関する別途請求はありません
- 請求書と請求明細書のみの発行となり、見積書や納品書等は発行できません
- 支払いが滞納した場合は、今後の施設利用を制限させていただく場合があります
- 決算月や年度末などは請求書の前倒し発行等も可能ですのでご相談ください
